Le macchine a litografia EUV sono attrezzature cruciali nella moderna produzione di chip e uno dei loro sottosistemi principali è la sorgente di luce EUV Laser - (LPP). In precedenza, il mercato globale per questa fonte si basava principalmente su laser CO2 prodotti da Cymer, una società americana. Questi laser eccitano i plasmi SN con un'efficienza di conversione energetica (CE) superiore al 5%e fungono da fonte di luce di guida per le macchine litografiche ASML. ASML è attualmente l'unico produttore di macchine per litografia al mondo in grado di utilizzare fonti di luce EUV, mantenendo una quota di mercato al 100% in questo campo. Tuttavia, a causa dei controlli di esportazione imposti dal Dipartimento del Commercio degli Stati Uniti sulla Cina, ASML e altre società di chip sono stati vietati di vendere tagliare - Edge Modelli di litografia EUV in Cina dal 2019, ostacolando gravemente lo sviluppo dell'industria della Cina.
Ma i ricercatori cinesi erano imperterriti. Dopo anni di duro lavoro, il team di Lin Nan ha aperto la strada a un nuovo approccio, usando i laser pulsati a stato solido - anziché i laser di CO2 come fonte di luce di guida. Attualmente, il laser statale solido da 1 µm del team - ha raggiunto un'efficienza di conversione massima del 3,42%. Sebbene non sia ancora superiore al 4%, supera le prestazioni dei team di ricerca nei Paesi Bassi e nella Svizzera ed è metà dell'efficienza di conversione del 5,5% delle fonti di luce commerciale. I ricercatori stimano che la teorica efficienza di conversione massima della piattaforma sperimentale della fonte di luce possa avvicinarsi al 6%, con un potenziale per ulteriori miglioramenti in futuro. I risultati della ricerca pertinenti sono stati recentemente pubblicati sulla copertina del numero 2025 della rivista China Laser, numero 6 (fine marzo).
Lin Nan, l'autore corrispondente di questo documento, fornisce un forte supporto per questo risultato con il suo background e competenza di ricerca. Attualmente è ricercatore e supervisore di dottorato presso l'Istituto di ottica e precisione di Shanghai, Accademia cinese delle scienze, un talento di livello nazionale all'estero - di livello, vicedirettore del National Key Laboratory di Ultra- intenso scienze del laser e tecnologia, Chief Technical Officer del Dipartimento di Opticale Cina, un membro dell'integrazione di un azionario cinese per l'Ingelemento cinese, un membro del Comitamento integrato e un membro dell'integrazione di Circuitment CHINUTY CHINUTY CHINUTY COMPIUTIE CHINUTY COMPIUTIVE CHINUTY COMPIUTT COMPIUTIVE COMPIUTIVE COMPIUTIVE COMPIUTIVE COMPIUTI. Society and the Micro - Nano Comitato della Cinese Society of Optical Engineering. Lin Nan aveva precedentemente lavorato come ricercatore e poi come capo della tecnologia della fonte luminosa nel dipartimento di ricerca e sviluppo presso ASML nei Paesi Bassi. Ha oltre un decennio di esperienza nella ricerca, nello sviluppo di progetti di ingegneria e nella gestione di grandi apparecchiature di produzione e misurazione integrate di circuiti integrati in scala -. Ha richiesto e concesso oltre 110 brevetti internazionali negli Stati Uniti, in Giappone, in Corea del Sud e in altri paesi, molti dei quali sono stati commercializzati e incorporati nelle ultime macchine litografiche e attrezzature metrologiche. Si è laureato alla Lund University in Svezia, dove ha studiato sotto il 2023 vincitore del premio Nobel in Fisica Anne l'Huillier. Ha anche conseguito un dottorato congiunto presso la Parigi - Saclay University e l'Agenzia per l'energia atomica francese e ha condotto ricerche post -dottorato presso ETH Zurigo in Svizzera.
Nel febbraio di quest'anno, il team di Lin Nan ha pubblicato un documento di copertina nel terzo numero della rivista "Progress in Laser e Optoelectronics", proponendo uno schema di generazione efficiente a largo larga a banda larga basata su un plasma di stagno laser spazialmente, che può essere usato per il massiccio di throod alti, che possono essere usati per la misurazione dei nodi avanzati. Lo schema ha raggiunto un'efficienza di conversione fino al 52,5%, che è la più alta efficienza di conversione riportata fino ad oggi nella banda ultravioletta estrema. Rispetto alla fonte di luce armonica di ordine superiore attualmente commerciale -, l'efficienza di conversione è migliorata di circa 6 ordini di grandezza, fornendo un supporto tecnico più nuovo per il livello di misurazione della litografia domestica.
La piattaforma basata su Solid - State Laser - sviluppata dal team di Lin Nan è distinta dalla tecnologia CO2 - guidata utilizzata nelle apparecchiature di litografia industriale di ASML. Il documento afferma: "Anche con un'efficienza di conversione di soli 3%, solido - Laser State - LPP guidato LPP - EUV Fonti possono fornire watt - Potenza di livello, rendendoli idonei alla verifica dell'esposizione EUV e all'ispezione della maschera." Al contrario, i laser di CO2 commerciale, sebbene alti - potenza, sono voluminosi, hanno un basso elettro -efficienza di conversione ottica (meno del 5%) e incorpora costi operativi e di potenza elevati. Solid - Laser pulsati di stato, d'altra parte, hanno compiuto rapidi progressi negli ultimi dieci anni, raggiungendo attualmente uscite di potenza a livello di chilowatt e si prevede che raggiungeranno più di 10 volte in futuro.
Sebbene la ricerca su solide fonti di euv con guida di stato - - sia ancora nelle prime fasi sperimentali e non ha ancora raggiunto la piena commercializzazione, i risultati della ricerca del team di Lin Nan hanno fornito importanti fonti tecniche e misure di Misurazione. FAR - raggiungendo significato per la ricerca e lo sviluppo indipendenti della Cina della litografia EUV e i suoi componenti e tecnologie chiave.
Durante una teleconferenza degli investitori di questo mese, il CFO ASML Roger Dassen ha dichiarato di essere a conoscenza dei progressi della Cina nella tecnologia di sostituzione della litografia e ha riconosciuto che la Cina ha il potenziale per produrre fonti di luce EUV. Tuttavia, credeva ancora che ci sarebbero voluti molti anni per la Cina per produrre attrezzature di litografia EUV avanzate. Tuttavia, gli sforzi incessanti e le continue scoperte dei ricercatori cinesi stanno gradualmente rompendo questa aspettativa. Nel 2024, ASML ha ottenuto vendite nette di € 28,263 miliardi, un anno - su - aumento del 2,55%, stabilire un nuovo record. La Cina è diventata il suo più grande mercato, con vendite di € 10,195 miliardi, pari al 36,1% delle sue entrate globali. Anche nel contesto degli attuali controlli e tariffe delle esportazioni di semiconduttori, ASML prevede che le vendite in Cina rappresentino poco oltre il 25% delle sue entrate totali nel 2025. L'ascesa dell'industria cinese dei chip è inarrestabile.
